而提到材料学，就不得不提到奠定了日本在精密加工以及精密芯片行业的统治地位的另一个基础产业，那就是光刻机。

     光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。

    因此光刻机价格昂贵，通常在3，000至5，0000万美元。

     光刻机/紫外曝光机（maskaligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。

    常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫maskalignmentsystem. 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

     photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）。

     在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

     高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。

    高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

    国外品牌主要以荷兰a**l（镜头来自德国），日本尼康（intel曾经购买过nikon的高端光刻机）和日本佳能三大品牌为主。

     而光刻机里面最重要的就是曝光系统、工件台和对准系统。

     曝光系统的主要功能就是平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。

     工件台由掩模样片整体运动台（xy）、掩模样片相对运动台（xy）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。

     其中，样片调平机构包括球座和半球。

    调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。

     样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。

    另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。

     抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。

    承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。

     而工件台上的一切操作都需要在对准系统的辅助下，进行手工调节。

     而制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。

    为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了led照明。

     对准系统共有两套，具备调焦功能。

    主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目