……” 他话锋一转，转向另一个角度： “您说的‘更精细节点’，如果想通过NXT：1950i这样的深紫外设备制造，那就要结合离轴照明、相移掩模、还有多重曝光这些技术，去强行实现比理论极限更高的分辨率……技术上，我们确实在攻关，也取得了一些成果。

    ” 常浩南也看出对方是会了意，于是追问：“量产能力和良率如何？” 吴明翰摇摇头，语气变得沉重起来：“理论上，曝光次数每翻一倍，分辨率就能增加一倍，但实际问题非常大……” 说到这里他略略加快脚步，和常浩南来到一个稍僻静的地方： “一方面，这些技术本身极其复杂，工艺整合还不完全成熟，任何一个环节的波动都会导致失败。

    另一方面，多重曝光极大地增加了工艺步骤和套刻对准的次数，每一次对准都会引入微小的误差，累积起来，会导致芯片上特征尺寸的均匀性变差，关键尺寸偏差飙升……” “总体来说，双重曝光可能可以实现比48nm更高的特征尺寸，但良品率和成本都不太容易控制，产能也就不可能提上去，至于四重曝光……” 吴明翰脸部肌肉抽动了一下：“理论性能几乎可以对标EUV，不过大概率连一片产品都流不出来。

    ” 常浩南静静地听着，脸上没有任何惊讶或失望的表情，仿佛早已预料到这个答案。

     他对吴明翰描述的困境不置可否，既没有追问细节，也没有表达看法。

    只是在吴明翰说完后。

     只是沉默了几秒钟，然后提出了一个让吴明翰更加意外，却又隐隐觉得合情合理的请求： “吴院士，您说的我明白了。

    技术攻关的艰难，我深有体会。

    ”他停顿了一下，“不知是否方便……我想近期亲自去华芯国际的晶圆厂参观一下……不需要特别安排，就看看你们最真实的生产线和工艺现状。

    ” 实际上，这个要求提的有些冒失。

     华芯国际毕竟是个企业，常浩南手里也有企业，虽说不构成直接竞争，但你开口就要去最核心的地方看看，总归不太合适。

     但吴明翰心中却念头飞转：常浩南院士突然对芯片制造产生了浓厚兴趣？而且是成熟制程？还要实地看生产线？ 这绝对不仅仅是出于对智能制造芯片供应商的考察那么简单。

     联想到火炬实验室那些前沿研究成果…… 吴明翰的心脏不由得加速跳动了几下。

     他隐隐感觉到，这次参观如果成行，或许会带来一些意想不到的转机。

     “当然方便！”吴明翰冒着越俎代庖的风险应承下来，“我马上联系人安排！您看什么时候合适？我们全程配合！”