的上沪微电子集团，在原有ArF浸没式光刻技术平台上的迭代升级型号。

    ” “迭代升级……”奥观海眉头紧锁，他对这些专业设备型号的记忆并不深刻，“不是EUV？” 多尼伦摇摇头，解释道，“虽然其核心曝光机柜的体积相比ArF-1500或者ASML的NXT：1980Di有明显缩减，但公开图像的角度过于单一，且缺乏近距离细节，特别是核心光学镜组、工件台运动系统和实时调平反馈等关键部件的清晰视图，所以无法单从外观锁定其类型，不过，ArF是典型的DUV光源……” 奥观海烦躁地挥了挥手，像是要驱散眼前恼人的烟雾： “算了，我不想听这些技术细节……汤姆，我只想知道，他们到底是怎么做到的？” “去年，就在去年！我们的专家团还信誓旦旦地向我保证，华夏在EUV技术路线上至少落后十年，在DUV上即便能推进到7nm，良率也绝对达不到经济量产的水平！现在呢？第二条产线都要建了！” 他的声音不由自主地拔高，带着压抑不住的怒火和挫败感。

     多尼伦感受到了总统的怒火，赶紧跳到重点：“根据我们目前掌握的情报线索和初步研判，基本可以排除ASML或者其核心供应商直接向华夏转让EUV核心技术的可能性，泄密的链条和规模都无法支撑如此快速的产业化落地。

    ” 他翻开报告，指向其中一段加粗的结论： “技术顾问组认为，最大的可能性在于，华夏方面在DUV多重曝光路线的关键环节取得了突破性进展，例如ALD技术可以在原子尺度精确控制薄膜沉积的厚度和均匀性，这对于多重曝光中作为间隔层或硬掩模的材料至关重要，再结合超高精度的刻蚀技术，有可能将多重曝光的负面效应降到可以接受的程度。

    ” “多重曝光？”奥观海对这个词有些印象，“我记得……之前也有人提过这种技术路线，但结论是代价高昂，良率无法保证？” “是的，阁下，这是先天原理所决定的。

    ”多尼伦点点头，随后又补充道，“而且，这种基于DUV多重曝光的技术路径存在天然的天花板，随着制程进一步微缩，比如向等效5纳米或更先进节点迈进，图形拆分将变得极其复杂甚至不可能……” 这看似是在传递一个好消息。

     奥观海的眼神明亮了一瞬间，但很快又黯淡下去： “问题是，市场现在已经进入严重非理性的恐慌状态，所以这些细节恐怕已经无法挽回崩盘的市场信心了，必须得先做点什么让情绪冷静下来，然后再慢慢挽回局势……” 一句话说到